• 姓名: 韦亚一
  • 性别: 男
  • 职称: 研究员
  • 职务: 课题负责人、02项目首席科学家
  • 学历: 博士
  • 电话: +86-10-82995898
  • 传真: +86-10-82995684
  • 电子邮件: weiyayi@ime.ac.cn
  • 所属部门: 集成电路先导工艺研发中心
  • 通讯地址: 北京市朝阳区北土城西路3号

    简  历:

  • 教育背景:

    1998毕业于德国马普固体所/德国斯图加特大学,获理学博士学位

    1992毕业于中国科学院电子学研究所,获工学硕士学位

    工作简历:

    2013年 – 至今: 皇家赌场网址hj9990研究员、博士生导师;国家科技重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备”首席科学家(沈阳芯源微电子设备公司)。

    2009年 – 2013年: 美国格罗方德纽约研发中心光刻经理。

    2007年 – 2008年: 美国安智公司新泽西研发中心,高级科学家(Senior Staff Scientist)。

    2001年 – 2007年: 德国英飞凌公司美国纽约研发中心,高级工程师(Senior/Staff Engineer)。

    1998年 – 2001年: 美国能源部橡树岭国家实验室,博士后

    社会任职:

    研究方向:

  • 193nm浸没式光刻工艺;光学邻近效应修正(optical proximity collection);光刻材料研发和评估;匀胶显影设备(track)研发

    承担科研项目情况:

    代表论著:

  • Advanced processes for 193nm immersion lithography, SPIE Press 2009

    专利申请:

    获奖及荣誉: